电路板制作菲林什么是显影点

　　问：电路板制作菲林什么是显影点？干膜曝光后为何会显影不洁呢？用氯化铜测试完残胶后板面氧化如何去除？

　　答：所谓显影点，发生在光阻曝光后以显影液显影的过程中，当所要去除的所有光阻区域都恰好去除时，这个作业点就是显影点。显影点的前后，受到显影设备速度、喷压、药液温度、药液浓度、光阻特性等影响。要获得良好显影效果，保证显影良好、分辨率恰当，除了要有良好曝光，一般都会将显影点设在设备长度50-80%的位置，以免显影过度或不足。

　　干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、曝光露光现象、残渣回沾、显影液老化、曝光时问过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。

　　经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题，以上供您参考。

电路板制作菲林什么是显影点

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